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通用磁控濺射鍍膜機-武漢丝瓜app视频污在线观看

更新時間:2020-11-13

簡要描述:

公司生產的各型鍍膜機,是針對特定市場和客戶群體開發的新產品,與目前市場上普遍采用的鍍膜設備相比具備以下突出優勢:單體同步精密監控,實時膜厚分布控製。因此適合做各類高難度鍍膜產品。單片薄膜產品的麵積越大,優勢越明顯。而電子束鍍膜機還增加了雙麵鍍膜功能,適合半導體激光器的端麵鍍膜。
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型號:點擊量:83
品牌其他品牌價格區間麵議
產地類別國產應用領域醫療衛生,化工,電子

公司生產的各型鍍膜機,是針對特定市場和客戶群體開發的新產品,與目前市場上普遍采用的鍍膜設備相比具備以下突出優勢:單體同步精密監控,實時膜厚分布控製。因此適合做各類高難度鍍膜產品。單片薄膜產品的麵積越大,優勢越明顯。而電子束鍍膜機還增加了雙麵鍍膜功能,適合半導體激光器的端麵鍍膜。

特點:

1、支持向上或向下的鍍膜方式;

2、先進的濺射靶材結構設計,實現膜厚分部的穩定可靠;

3、高速旋轉的傘具與實際鍍膜工件的監控位置,實現了所見即所得;

4、多通道透射式監控,配合可調節膜厚修正板,實現了膜厚分布的反饋控製;

5、支持任意膜厚的控製;

6、通用的控製平台,友好的人機界麵,使客戶可以自行設置鍍膜機的所有控製參數;

7、開放式接口,方便安裝第三方的光學膜厚儀;

8、氣流和氣壓同時實時控製,適用出氣量大的低溫鍍膜。

  

工藝參數:

1、真空係統

     a) 極限真空度:4.0×10-5Pa 

     b) 抽至10Pa所用時間:≦ 10 分鍾

     c) 漏率: 3.0×10-5Pa m3/sec

2、控製精度

     a) 靶材尺寸:8寸直徑

     b) 工件旋速: 20-120RPM

     c) 工件尺寸:直徑900mm

     d) 離子源:等離子體離子源

     e) 加熱溫度:上下雙加熱控製,Z高溫度350度

     f)高真空泵:DN400油擴散泵或電子泵

     g)低真空泵組:機械泵+羅茨泵機組

     h)冷阱:雙組Polycold

3、光學監控係統OMS

     a) 波長精度:0.2nm

     b) 光強波動: 白光< 0.1%,激光< 0.02%

     c) 波長範圍: 400nm-1650nm

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